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      GC-9860-5CPDHID氦離子氣相色譜儀

      GC-9860-5CPDHID氦離子氣相色譜儀

      簡(jiǎn)要描述:

      GC-9860-5CPDHID氦離子氣相色譜儀適用于高純氣體、超高純氣體及電子工業(yè)用氣體中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)。該產(chǎn)品以GC-9860氣相色譜儀為載體,配備VALCO公司生產(chǎn)的氦離子化(PDHID)檢測(cè)器;采用公司擁有專業(yè)技術(shù)的四閥五柱的中心切割與反吹技術(shù),其中的所有進(jìn)樣和切換閥均為VALCO公司生產(chǎn)的帶吹掃保護(hù)氣路的六通或十通閥;上述部分與VALCO公司原裝的氦氣純化器、無(wú)死體積取樣閥等部件一起組成。

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      GC-9860-5CPDHID氦離子氣相色譜儀產(chǎn)品的特點(diǎn)與技術(shù)要求:

      1.氣體行業(yè)專業(yè)色譜技術(shù)成套解決方案;

      2.采用VICI公司Valco帶吹掃型十通與六通切換閥控制氣路;

      3.應(yīng)用氣體分離色譜柱分離預(yù)切再分離技術(shù);

      4.采用本公司專門技術(shù)的可分離與嵌入式單體控溫柱爐;

      5.工藝流程采用多路精密零死體閥控制多維色譜分離柱流量;

      6.分析流程全部采用Valco公司316不銹鋼管路與鍍金接頭;

      7.核心靈敏部件采用Valco公司PDHID脈沖氦離子檢測(cè)器;

      8.成套專業(yè)化的數(shù)字與全中文反控氣相色譜儀。

      中心切割與反吹系統(tǒng)

      GC-9860-5CPDHID氦離子化氣相色譜儀采用多閥多柱的中心切割與反吹系統(tǒng),該系統(tǒng)由多個(gè)吹掃型十通閥及多根色譜柱聯(lián)合組成,通過(guò)工作站設(shè)置的時(shí)間程序自動(dòng)控制其進(jìn)樣、切換、切割與反吹等過(guò)程,完成包括高純氮、高純氫、高純氧、高純氦、高純二氧化碳、高純氬、氪氣、氙氣、氖氣等高純氣體以及硅烷等電子工業(yè)用氣體中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)。

      VALCO吹掃型十通閥
      GC-9860-PDHID氦離子化氣相色譜儀所配備的均為*VALCO生產(chǎn)的經(jīng)特殊加工的色譜柱技術(shù)

      杜絕氧吸附

      氣體全分析流程:四閥五柱

      HP-2氦氣純化器:

      可純化氣體:He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn 、NO、NH3、CF4等

      殘留濃度:≤10ppb

      外置式單氣路恒溫柱箱

      ◆單氣路,箱爐可獨(dú)立控溫與恒溫;

      ◆加熱塊與柱爐體采用可分離與嵌入式技術(shù);安裝與拆卸實(shí)用方便;

      ◆爐體與外箱盒設(shè)計(jì)分體, 安裝色譜柱, 分離與嵌入加熱塊,填裝保溫棉材等都人性化設(shè)計(jì);

      ◆PDHID是利用氦中穩(wěn)定的,低功率脈沖放電作電離源,使被測(cè)組分電離產(chǎn)生信號(hào)。

      PDHID是非放射性檢測(cè)器,對(duì)所有物質(zhì)均有高靈敏度的正響應(yīng)。

      ◆非放射性檢測(cè)器,使用安全;

      ◆檢測(cè)靈敏度高,氣體中雜質(zhì)的小檢測(cè)濃度達(dá)5ppb。

      Valco  PDHID氦離子化檢測(cè)器對(duì)6種雜質(zhì)的檢測(cè)限(ppb)

      雜質(zhì)種類

      H2

      O2

      N2

      CO

      CH4

      CO2

      檢測(cè)限

      5

      10

      10

      25

      5

      5

      GC-9860-5CPDHID氦離子氣相色譜儀分析過(guò)程

      1.如高純N2通過(guò)程序設(shè)定,樣品通過(guò)閥1定量管定量進(jìn)入預(yù)柱1/8"*2mHayesepQ 1,預(yù)柱很好的把O2中CO2和H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO組分預(yù)分離,待H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO 流出預(yù)柱,自動(dòng)切換閥1。CO2直接通過(guò)閥1放空.

      2.閥3一開(kāi)始是1-4相同,當(dāng)O2從分子篩柱流出后進(jìn)入閥3后,進(jìn)入后面的分析篩,閥3切換,H2、02直接進(jìn)入后面的分子篩繼續(xù)分離,通過(guò)閥4進(jìn)入檢測(cè)器檢測(cè)。此時(shí)閥3處于放空狀態(tài),放掉大部分的氮?dú)猓?dāng)CH4即將流出前面分子篩,閥3再次切換, CH4與氮?dú)獾幕旌蠚怏w進(jìn)入后面的分子篩繼續(xù)分離,通過(guò)閥4進(jìn)入檢測(cè)器進(jìn)行檢測(cè)。當(dāng)CH4*流出前面分子篩后,閥3再次切割為放空狀態(tài),繼續(xù)放掉氮?dú)狻?/span>

      3.當(dāng)CO即將流出分子篩,閥3再次切換,CO通過(guò)閥3進(jìn)入后面的分子篩繼續(xù)分離,進(jìn)入檢測(cè)器檢測(cè)。當(dāng)CO從前面分子篩流出后,閥3再次切換,處于放空狀態(tài)。

      4.閥2是用來(lái)分析CO2的,當(dāng)樣品從定量環(huán)中帶入預(yù)柱中,一開(kāi)始閥2是處于放空狀態(tài),待H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO流出排空后,閥2切換,把CO2反吹進(jìn)檢測(cè)器進(jìn)行分析。


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