高純氣體分析色譜適用范圍
　　高純氣體分析色譜適用于高純氣體和電子工業(yè)用氣體中痕量雜質(zhì)的檢測，zui小檢測濃度可達5ppb。高純氣體分析色譜配備高靈敏的氦離子化檢測器，采用*的中心切割技術(shù)，進樣閥均帶有吹掃保護氣路；整機采用多柱箱設(shè)計，并配備進樣壓力自動校正系統(tǒng)，保證不同底氣的樣品的進樣量一致。
　　高純氣體分析色譜適用于高純氫、氧、氬、氮、氦、氖、氪、氙、二氧化碳等氣體中痕量雜質(zhì)的檢測，高純氣體分析色譜配備高靈敏度的氦離子化檢測器，采用中心切割與反吹技術(shù)，配置具有吹掃保護氣路的進樣切換閥和進口氦氣純化器，通過無死體積取樣或在線進樣方式，一次性完成上述高純氣體中H2、O2（Ar）、N2、CH4、CO、CO2等常見雜質(zhì)或C1-C4等碳氫化合物的檢測，檢測限達ppb級，重復(fù)性RSD≤1％。